【亜州ビジネス編集部】米ジョージタウン大学の「新興技術観測（ETO）プロジェクト」によると、中国は近年、次世代半導体技術の研究論文数が米国の2倍以上に拡大した。このことから同プロジェクトは、中国が同分野で近い将来米国を上回るとの予想を示している。10日付台湾・工商時報が米IT（情報技術）メディア、トムズハードウエアの報道として伝えた。

　ETOによると、2018～23年までに世界で発表された半導体の設計と製造に関する研究論文は47万5000本に上る。国・地域別では中国の機関による作成割合が34％に達し、米国の15％、欧州の18％を大きく引き離した。

　中国の研究論文の質は低くない。引用された件数で上位10％の論文のうち、中国の貢献度は50％に達する。米国と欧州は各22％、17％と中国に遠く及ばない。



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