中国の中堅企業が半導体（IC）製造向け化学剤、材料の生産に乗り出す。電子デバイス材料メーカーの江蘇南大光電材料（300346/SZ)は17日、フォトレジスト（感光性耐食被膜）事業を手がける全額出資子会社「寧波南大光電材料有限公司」を立ち上げたと報告。2019年末までをめどに、1本目の生産ラインを整備すると発表した。

　すでに工場を建設している。ArFエキシマレーザー（発振波長193nm）用のフォトレジスト生産には、6億5600万人民元（約102億7000万円）を投じる計画。年産能力は25トンに設定し、3年で全生産ラインを構築する。

　江蘇南大光電材料はまた、高純度の有機金属化合物（MO）材料、電子不足化合物のヘキサメチル二アルミニウムの生産工場を建設する計画も進めている。


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