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2021/04/07 19:00
中国:14nm対応のフォトマスク基板、上海臨港で工場着工
産業・企業
【亜州ビジネス編集部】上海市浦東区の中国(上海)自由貿易試験区臨港新片区でこのほど、フォトマスク工場が着工された。上海伝芯半導体有限公司が回路線幅14ナノメートル(nm)対応のフォトマスク基板を中国企業で初めて量産する。DRAMエクスチェンジが7日報じた。
上海伝芯半導体はフォトマスク基板の研究・開発・産業化プロジェクトを推進する。半導体の国産化を支援する戦略だ。
2020年7月に発足した上海伝芯半導体は登録資本5000万人民元(約8億3800万円)。半導体生産分野向けの素材開発を手掛けている。
内容についてのお問い合わせは<info@ashuir.com>まで。
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