ニュース 2020/11/10 19:00
中国:南大光電がフォトレジストなど量産へ、最大11.45億元投資
産業・企業
中国の電子デバイスメーカーが半導体製造向け化学品の生産能力を増強する。江蘇南大光電材料(Jiangsu Nata Opto-electronic Material:300346/SZ)は6日、新株発行を通じて新たに最大6億3500万人民元(約101億円)を調達すると発表した。フォトレジスト(感光性耐食被膜)と三フッ化窒素(NF3)の生産ラインを整備する。
手許資金を合わせ、最大で総額11億4500万人民元を投資する予定。ハイエンドフォトレジストの開発と産業化に4億1000万人民元、ArFエキシマレーザー(発振波長193nm)露光光源向けフォトレジスト(年産能力25トン)の開発と産業化に2億5000万人民元、NF3の増産に3億人民元などを投入する。
回路線幅14〜90ナノメートルの半導体製造需要を満たす計画。NF3の生産ラインに関しては、年産能力を2000トン上乗せする。
内容についてのお問い合わせは<info@ashuir.com>まで。
手許資金を合わせ、最大で総額11億4500万人民元を投資する予定。ハイエンドフォトレジストの開発と産業化に4億1000万人民元、ArFエキシマレーザー(発振波長193nm)露光光源向けフォトレジスト(年産能力25トン)の開発と産業化に2億5000万人民元、NF3の増産に3億人民元などを投入する。
回路線幅14〜90ナノメートルの半導体製造需要を満たす計画。NF3の生産ラインに関しては、年産能力を2000トン上乗せする。
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