中国の電子デバイスメーカーが半導体製造向け化学品の生産能力を増強する。江蘇南大光電材料（Jiangsu Nata Opto-electronic Material：300346/SZ)は6日、新株発行を通じて新たに最大6億3500万人民元（約101億円）を調達すると発表した。フォトレジスト（感光性耐食被膜）と三フッ化窒素（NF3）の生産ラインを整備する。
　手許資金を合わせ、最大で総額11億4500万人民元を投資する予定。ハイエンドフォトレジストの開発と産業化に4億1000万人民元、ArFエキシマレーザー（発振波長193nm）露光光源向けフォトレジスト（年産能力25トン）の開発と産業化に2億5000万人民元、NF3の増産に3億人民元などを投入する。
　回路線幅14〜90ナノメートルの半導体製造需要を満たす計画。NF3の生産ラインに関しては、年産能力を2000トン上乗せする。


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