ニュース 2025/12/08 10:07 NEW!!
中国:2nmプロセス技術特許、華為22年の出願が判明 
産業・企業 電子・半導体
華為技術有限公司(ファーウェイ)が2022年6月に、極端紫外線(EUV)露光装置を使用せずに2ナノメートル(nm)プロセスレベルの半導体を実現する、高度なパターニング技術の特許を出願していたことが分…
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